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新聞詳情
電商MRO供應(yīng)鏈德國optrisc歐普士單體紅外測溫儀CSmicro徹底清洗晶圓和去除殘留光刻膠的重要性
日期：2025-06-27 00:25
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摘要：徹底清洗晶圓和去除殘留光刻膠的重要性
光學(xué)光刻是用于制造集成電路的一種工藝。首先，將一種感光材料（稱為光刻膠）涂到基板上。然后將包含所需圖案的光掩模放置在光刻膠上方，光線穿過光掩模，暴露光刻膠的特定區(qū)域。這些暴露的區(qū)域會發(fā)生化學(xué)變化，在顯影液中可溶或不溶。顯影后，圖案通過蝕刻、化學(xué)氣相沉積或離子注入轉(zhuǎn)移到基板上。
一旦結(jié)構(gòu)被蝕刻或沉積在晶圓上，去除光刻膠并徹底清潔晶圓至關(guān)重要。此清潔過程通常分為三個不同的階段。首先，剝離光刻膠。隨后，使用專門的化學(xué)清潔方法消除晶圓表面上的任何殘留物。*后，對表面...
徹底清洗晶圓和去除殘留光刻膠的重要性
光學(xué)光刻是用于制造集成電路的一種工藝。首先，將一種感光材料（稱為光刻膠）涂到基板上。然后將包含所需圖案的光掩模放置在光刻膠上方，光線穿過光掩模，暴露光刻膠的特定區(qū)域。這些暴露的區(qū)域會發(fā)生化學(xué)變化，在顯影液中可溶或不溶。顯影后，圖案通過蝕刻、化學(xué)氣相沉積或離子注入轉(zhuǎn)移到基板上。
一旦結(jié)構(gòu)被蝕刻或沉積在晶圓上，去除光刻膠并徹底清潔晶圓至關(guān)重要。此清潔過程通常分為三個不同的階段。首先，剝離光刻膠。隨后，使用專門的化學(xué)清潔方法消除晶圓表面上的任何殘留物。*后，對表面進(jìn)行細(xì)致的清潔和鈍化，為后續(xù)處理步驟做好準(zhǔn)備。
如果晶圓在后續(xù)光刻工藝之前仍含有光刻膠，則可能會出現(xiàn)幾個問題。殘留的光刻膠會導(dǎo)致后續(xù)光刻步驟中圖案轉(zhuǎn)移不準(zhǔn)確，從而導(dǎo)致晶圓上的電路或特征出現(xiàn)缺陷。不干凈的晶圓會引入污染物，干擾材料沉積、蝕刻工藝或其他制造步驟，可能導(dǎo)致設(shè)備性能不佳或故障。此外，受污染或清潔不當(dāng)?shù)木A會增加缺陷率，降低生產(chǎn)批次中1功能集成電路的總產(chǎn)量。
需要一種成像方法來檢測清潔過程中 API 薄膜的殘留物或未知位置的污染物，因為它們在可見光譜域中并不總是可見的。
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通過減少中間環(huán)節(jié)，并提供便利的配送服務(wù)，將實惠和安心送到每一個客戶的手中。
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2025/4/27
